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标题: [问题]据说从晶圆中心切下的硅晶,更容易超频,为什么? [打印本页]
作者: wuyuetiger 时间: 2004-6-14 23:25 标题: [问题]据说从晶圆中心切下的硅晶,更容易超频,为什么?
如题
作者: lhblxw 时间: 2004-6-16 08:10
你是从那里听说的!听起来好象是有点道理,不过真是这样的吗???
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我最爱CPU超频了,有谁比我更爱吗?
作者: XiongGQ 时间: 2004-6-16 08:55
有点道理,象CRT显示器,中间的比四周的聚焦要好,做晶圆应该也差不多吧,都是透镜原理,只不过显象管是电子透镜,光刻机的是光学透镜吧。
作者: wuyuetiger 时间: 2004-6-16 12:04
我是从某杂志上看来的,现在找不到出处了
当时讨论的是AMD的64位芯片,据说看CPU的编号部分能区分CPU的die是位于晶圆的具体位置,那部分的数字越小就越接近晶圆中心
作者: mauriceliu 时间: 2004-6-16 15:45
以下是引用XiongGQ在2004-6-16 8:55:59的发言:
有点道理,象CRT显示器,中间的比四周的聚焦要好,做晶圆应该也差不多吧,都是透镜原理,只不过显象管是电子透镜,光刻机的是光学透镜吧。
有点不着四六,呵呵
作者: 硬件风云 时间: 2004-6-16 16:13
以下是引用wuyuetiger在2004-6-14 23:25:54的发言:
如题
这可以从硅晶圆的生产难度解释。
现在好象是12英寸了吧,记得懂事时我国生产出6英寸硅单晶曾大大宣传一番,可见越大越难做,且需要更苛刻的温度压力触媒等吧,所以晶圆中心的硅原子(晶格?)的亲和度要比边上的高,所以超频能力要强。
作者: wuyuetiger 时间: 2004-6-16 16:44
20英寸的晶圆要量产了吧,xiongGQ一点没说错,CPU靠光刻技术烧刻出来的,就是用的紫外线和复杂的透镜系统(现在有新技术是用平面镜的),一台光刻机可是价值不菲.既然用了透镜,那中央的误错应该相对小点的,成品率会高.再成熟的光刻技术都会产生一定量的废品或次品,原因就是空气中的杂质所致.
作者: 硬件风云 时间: 2004-6-16 17:51
看来不能想当然[em01]
作者: CHTH 时间: 2004-6-16 21:28
[em06][em06][em06][em06]
作者: wuyuetiger 时间: 2004-6-16 23:20
以下是引用wuyuetiger在2004-6-16 16:44:59的发言:
20英寸的晶圆要量产了吧,xiongGQ一点没说错,CPU靠光刻技术烧刻出来的,就是用的紫外线和复杂的透镜系统(现在有新技术是用平面镜的),一台光刻机可是价值不菲.既然用了透镜,那中央的误错应该相对小点的,成品率会高.再成熟的光刻技术都会产生一定量的废品或次品,原因就是空气中的杂质所致.
记错了,确实是12英寸的晶圆,现在的技术还造不了20英寸的,12英寸相当于300毫米
作者: mauriceliu 时间: 2004-6-17 00:33
以下是引用wuyuetiger在2004-6-16 16:44:59的发言:
20英寸的晶圆要量产了吧,xiongGQ一点没说错,CPU靠光刻技术烧刻出来的,就是用的紫外线和复杂的透镜系统(现在有新技术是用平面镜的),一台光刻机可是价值不菲.既然用了透镜,那中央的误错应该相对小点的,成品率会高.再成熟的光刻技术都会产生一定量的废品或次品,原因就是空气中的杂质所致.
应该和单晶硅结晶品质有关,和光刻没什么关系吧?
作者: wuyuetiger 时间: 2004-6-17 12:27
以下是引用mauriceliu在2004-6-17 0:33:24的发言:
应该和单晶硅结晶品质有关,和光刻没什么关系吧?
你说的有道理的,我现在觉得晶圆的制作工艺,导致晶圆中心的晶体品质较高(晶体均匀)有关。但也只是设想,有待进一步讨论和相关材料佐证
作者: pcix 时间: 2004-6-17 16:51
不太准确的说.硅晶体是从一个小的种子慢慢旋转长大的,越到后面硅晶体越有可能因为各种因素造成晶体内部结构不够一致.
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